ถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง

ถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง

ถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูงหมายถึงภาชนะที่ทำจากโลหะแทนทาลัมซึ่งมีความบริสุทธิ์โดยทั่วไปมากกว่าหรือเท่ากับ 99.98% ซึ่งมักจะสูงถึง 99.99% ออกแบบมาสำหรับกระบวนการทางอุตสาหกรรมที่เข้มงวดที่สุด ซึ่งแม้แต่สิ่งเจือปนแม้แต่ส่วนในล้านส่วนก็อาจทำให้คุณภาพของผลิตภัณฑ์ลดลงหรือความสามารถในการทำซ้ำของกระบวนการได้
ส่งคำถาม
คำอธิบาย
พารามิเตอร์ทางเทคนิค
มาตรฐานความบริสุทธิ์สำหรับถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง
 

"ความบริสุทธิ์สูง" ในบริบทนี้เหนือกว่าเกรดมาตรฐานเชิงพาณิชย์ โดยกำหนดเป้าหมายระดับสิ่งเจือปนที่วัดเป็นหน่วย PPM หลักเดียวสำหรับ Fe, Ni, O และ C ซึ่งทำได้สำเร็จโดยผ่านขั้นตอนการกลั่นหลายขั้นตอน-รวมถึงการกลั่นโซนและการหลอมด้วยเบ้าหลอมเหนี่ยวนำเย็น-สิ่งเหล่านี้ถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมตรวจสอบให้แน่ใจว่าภาชนะไม่มีส่วนแปลกปลอมในการหลอมละลาย นี่เป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการเติบโตของผลึกเซมิคอนดักเตอร์ การลดโลหะของธาตุหายาก และการจัดการวัสดุนิวเคลียร์

 

สิ่งเจือปน
โดยทั่วไปสูงสุด (ppm) – เกรด 99.99%
ผลกระทบหากเกิน
เฟ
น้อยกว่าหรือเท่ากับ 5
เปลี่ยนแปลงเคมีของโลหะผสม ทำให้เกิดการรวมตัว
นิ
น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3
ลดความต้านทานการกัดกร่อน
O
น้อยกว่าหรือเท่ากับ 5
ทำให้เกิดความเปราะที่อุณหภูมิ
C
น้อยกว่าหรือเท่ากับ 10
เกิดฮาร์ดคาร์ไบด์ ทำให้โครงสร้างอ่อนแอลง

 

บทบาททางอุตสาหกรรมของถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง

​

การเติบโตของคริสตัลเซมิคอนดักเตอร์​ – บรรจุสารหลอมบริสุทธิ์พิเศษสำหรับ SiC, GaN และแซฟไฟร์ ขจัดการปนเปื้อนของสารเจือปน
กระแสไฟฟ้าของโลหะที่หายากของโลก​ – ฟลูออไรด์/คลอไรด์ละลายสำหรับ Nd, Dy, Tb; คงลักษณะทางแม่เหล็ก

การผลิตเชื้อเพลิงนิวเคลียร์​ – โลหะผสมแอกติไนด์หลอมโดยมีสารเจือปนที่ดูดซับนิวตรอนน้อยที่สุด

 

ข้อดีของเบ้าหลอมโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง​

เหล่านี้ถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมprovide the highest℃of melt cleanliness, enabling defect‑free single crystals and high‑value metal production. Ultra‑low vapor pressure at >2500 องศาทำให้มั่นใจได้ถึงความเสถียรของมิติตลอดแคมเปญที่ยาวนาน โครงสร้างเกรนที่ตกผลึกใหม่อย่างละเอียดช่วยเพิ่มความต้านทานการคืบ อนุญาตให้ใช้ภายใต้แรงทางกลที่ 2000 องศา พื้นผิวเรียบ (Ra น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.4 µm) ช่วยลดการเกิดนิวเคลียส ทำให้ทำความสะอาดได้ง่ายขึ้น และรับประกันความสม่ำเสมอของแบทช์ต่อแบทช์ในสภาพแวดล้อมการผลิตอัตโนมัติที่มีปริมาณงานสูง

 

Customized 99.95% Pure Melting Tantalum crucible from ZhenAn

ใครเลือกเรา?

 

ข้อดีของผลิตภัณฑ์ของเรา
มีความบริสุทธิ์สูง
ระดับความบริสุทธิ์ 99.995%-99.997% โดยมีสิ่งเจือปนต่ำเป็นพิเศษ เช่น Pd และ Cd
คุณภาพลวดที่เหนือกว่า
สายไฟจะถูกคลายออกเท่าๆ กันในความยาวที่ต่อเนื่องกัน ทำให้มั่นใจได้ว่าการทำงานจะราบรื่น
พื้นผิวเรียบเนียนไม่มีคราบน้ำมัน
ไม่มีปัญหาการป้อนลวด
ปราศจากข้อบกพร่อง เช่น อนุภาค สายพันกัน นอต โค้งงอ การแตกหัก การเกิดออกซิเดชัน ความล้มเหลวของส่วนโค้งของสเปรย์ หรือหัวฉีดที่อุดตัน
รายงานการทดสอบฟรี
เราจัดทำรายงานการทดสอบฟรีเกี่ยวกับความหนาของชั้นสเปรย์ ความพรุน ความแข็งแรงของพันธะ และการตรวจสอบการเคลือบสำหรับตัวเก็บประจุและการเคลือบสังกะสีแบบพ่นด้วยความร้อน

โซลูชันครบวงจร-เดียว

ทีมงานมืออาชีพ

คุณภาพสูง

 

 

ป้ายกำกับยอดนิยม: ถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง ประเทศจีนผู้ผลิตถ้วยใส่ตัวอย่างโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง ซัพพลายเออร์ โรงงาน, 99 9 แผ่นโลหะผสมแทนทาลัมบริสุทธิ์, แท่งแทนทาลัมม้วนเย็น, Crucible Tantalum ที่มีความบริสุทธิ์สูง, ลวดแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง, เป้าหมายสปัตเตอร์โลหะบริสุทธิ์ TA, ก้าน Tantalum Round