เป้าหมายสีแทนความบริสุทธิ์สูง

เป้าหมายแทนทาลัมมักจะเรียกว่าเป้าหมายเปลือย โดยทั่วไปจะเชื่อมกับเป้าหมายหลังทองแดงก่อนแล้วจึงสามารถใช้สำหรับเซมิคอนดักเตอร์หรือการสปัตเตอร์ออปติคอลเพื่อสะสมอะตอมแทนทาลัมบนวัสดุพื้นผิวในรูปแบบของออกไซด์เพื่อให้ได้การเคลือบสปัตเตอร์

พารามิเตอร์ประสิทธิภาพ
ขนาดเกรนของมันคือ 40-60 μmและพื้นผิวเป็นชุดซึ่งเป็นพารามิเตอร์หลักที่สะท้อนถึงประสิทธิภาพภายในของวัสดุ

บริษัท เป้าหมายสปัตเตอร์เมทัลบริสุทธิ์ TA บริสุทธิ์

บริษัท เป้าหมายสปัตเตอร์เมทัลแทน

ถาม: จะส่งอย่างไร?

ตอบ: เรามีระบบบริการโลจิสติกส์ที่สมบูรณ์แบบ

ถาม: ตัวอย่างการสนับสนุนผลิตภัณฑ์/บริการที่กำหนดเองหรือไม่?

ตอบ: เราให้บริการ Sampleservice และบริการที่กำหนดเองเมื่อการซื้อมาถึงปริมาณที่ระบุ

ถาม: มีส่วนลดหรือไม่?

ตอบ: ใช่เราจะออกเงินรางวัลหรือส่วนลดทุกเดือนตามสถานการณ์ หากคุณสนใจเราจะให้ช่องเพื่อรับคูปองเมื่อสั่งซื้อ

ถาม: วิธีเลือกแบรนด์และประเภทของวัสดุโลหะ?

ตอบ: ในรายละเอียดผลิตภัณฑ์ส่วนใหญ่เราจะอธิบายการใช้วัสดุที่แตกต่างกันของวัสดุต่าง ๆ ในรูปแบบตาราง หากคุณมีปัญหาอื่น ๆ เราสามารถพูดคุยเพิ่มเติมได้

ถาม: ไม่แน่ใจว่าจำเป็นต้องใช้วัสดุโลหะชนิดใด?

ตอบ: โปรดบอกเราเกี่ยวกับการใช้วัสดุและเราจะให้ข้อมูลอ้างอิงตามลักษณะวัสดุที่แตกต่างกัน

ถาม: คุณให้รายงานการทดสอบหรือไม่?

ตอบ: ใช่เราจัดทำรายงานการทดสอบของบุคคลที่สาม หากมีการระบุบุคคลที่สามจะมีการเรียกเก็บค่าธรรมเนียมเพิ่มเติม