เป้าหมายการเคลือบ Niobium Metal

ความบริสุทธิ์: ขึ้นอยู่กับข้อกำหนดของแอปพลิเคชันที่แตกต่างกันความบริสุทธิ์ของเป้าหมายไนโอเบียมมักจะต้องไปถึง 99.9% หรือสูงกว่า
ในสนามของเซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบแบบออพติคอลเป้าหมายไนโอเบียมที่มีความบริสุทธิ์สูงสามารถมั่นใจได้ว่าคุณภาพและประสิทธิภาพของฟิล์มบาง
ความขรุขระพื้นผิว: RA น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0. 8 μm
พื้นผิวเสร็จสิ้นส่งผลโดยตรงต่อความสม่ำเสมอและผลการสะสมในระหว่างการสปัตเตอร์ดังนั้นจึงเป็นสิ่งสำคัญในการขัดพื้นผิวเป้าหมายอย่างแม่นยำ
ความแม่นยำของมิติ: ภายใน± 0. 1 มม.
การควบคุมมิติที่แม่นยำสามารถมั่นใจได้ว่าการจับคู่ที่ดีระหว่างเป้าหมายและอุปกรณ์จึงปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิตและคุณภาพของผลิตภัณฑ์

เป้าหมายสปัตเตอร์ Niobium Ultrapure

(5N) 99.999% เป้าหมายการสปัตเตอร์ Niobium

ถาม: ข้อมูลใดที่ฉันควรแจ้งให้คุณทราบหากฉันต้องการได้รับใบเสนอราคา?

ตอบ: มิติวัสดุที่ต้องการ (ความหนา*ความกว้าง*ความยาวเส้นผ่านศูนย์กลาง*ความยาวถ้าเป็นไปได้โปรดกรุณาจัดหาภาพวาดให้เรา)

ข้อมูลเพิ่มเติมที่จำเป็นเช่นสภาพพื้นผิวคำขอความอดทนปริมาณและรายละเอียดเชิงกลและทางเทคนิคอื่น ๆ

หากเป็นไปได้โปรดให้การประยุกต์ใช้ผลิตภัณฑ์เราจะแนะนำผลิตภัณฑ์ที่เหมาะสมที่สุดพร้อมรายละเอียดสำหรับการยืนยัน

ถาม: คุณจะ Gurantee คุณภาพของผลิตภัณฑ์ได้อย่างไร?

ตอบ: แต่ละขั้นตอนของการผลิตและผลิตภัณฑ์สำเร็จรูปจะดำเนินการตรวจสอบโดยแผนก QC ก่อนที่จะเก็บไว้ในคลังสินค้า ไม่อนุญาตให้ใช้สินค้า NG ในคลังสินค้าสินค้าที่เสร็จสมบูรณ์

ถาม: คุณรับประกันการจัดส่งที่รวดเร็วได้หรือไม่?

ตอบ: ใช่เมื่อเราได้รับการสอบถามของคุณไม่เพียง แต่เราจะประเมินราคาที่แข่งขันได้มากขึ้น แต่เรายังสามารถรับเวลาการส่งมอบที่สมเหตุสมผลที่สุด ดังนั้นจึงสามารถรับประกันการจัดส่งที่รวดเร็ว