เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะไนโอเบียมสำหรับการเคลือบ PVD

การทำให้บริสุทธิ์วัตถุดิบ:
แร่ไนโอเบียมผ่านการรักษาด้วยสารเคมีและทางกายภาพเพื่อสกัดไนโอเบียมโลหะที่มีความบริสุทธิ์สูง
เนื้อหาที่ไม่บริสุทธิ์จะต้องมีการควบคุมอย่างเคร่งครัดในระหว่างกระบวนการทำให้บริสุทธิ์เพื่อให้แน่ใจว่าความบริสุทธิ์ของผลิตภัณฑ์ขั้นสุดท้ายถึง 99.9% หรือสูงกว่า

การหล่อและการปลอม:
ไนโอเบียมบริสุทธิ์ถูกละลายและโยนลงในบิลเล็ต
โครงสร้างจุลภาคและคุณสมบัติเชิงกลของวัสดุจะได้รับการปรับให้เหมาะสมยิ่งขึ้นโดยการปลอมหรือการตีเย็น

การตัดเฉือน:
บิลเล็ตถูกประมวลผลเป็นเป้าหมายไนโอเบียมที่ตรงตามข้อกำหนดขนาดโดยใช้กระบวนการต่าง ๆ เช่นการหมุนการกัดและการบด
การรักษาพื้นผิวจะดำเนินการเพื่อให้แน่ใจว่าเรียบและเสร็จสิ้นและลดข้อบกพร่องในระหว่างการสปัตเตอร์

การตรวจสอบและบรรจุภัณฑ์:
ผลิตภัณฑ์สำเร็จรูปจะได้รับการตรวจสอบคุณภาพอย่างเข้มงวดรวมถึงความบริสุทธิ์ความหนาแน่นความขรุขระพื้นผิวและตัวชี้วัดอื่น ๆ
บรรจุภัณฑ์และการขนส่งดำเนินการตามความต้องการของลูกค้า

เป้าหมายสี่เหลี่ยมจัตุรัส

เป้าหมาย NB 99.95%

1. จะรับใบเสนอราคาได้อย่างไร?

ติดต่อเราเพื่อรับใบเสนอราคาสำหรับผลิตภัณฑ์ที่เกี่ยวข้องภายในสามชั่วโมง

2. คุณยอมรับการปรับแต่งหรือไม่?

ใช่เราสามารถประมวลผลตามภาพวาดของคุณ

3. การขนส่งสินค้าราคาเท่าไหร่?

ส่วนใหญ่ขึ้นอยู่กับน้ำหนักปริมาณขนาดบรรจุภัณฑ์และพอร์ตปลายทาง

4. เวลาจัดส่งของคุณใช้เวลาเท่าไหร่?

ถ้าอยู่ในสต็อก 1-2 วันถ้าไม่ขึ้นอยู่กับปริมาณของคุณ