กระบวนการประมวลผลสะโพกของเป้าหมายแทนทาลัม
กระบวนการกด isostatic isostatic (HIP)
การโหลด: การโหลดผงแทนทาลัมหรือช่องว่าง preformed ลงในอุณหภูมิสูงและอุปกรณ์แรงดันสูง
การให้ความร้อนและความดัน: การรักษาวัสดุภายใต้อุณหภูมิสูงและความดันไอโซสเตตเพื่อทำให้หนาแน่น
การระบายความร้อนและการลบ: หลังจากการระบายความร้อนแล้วให้ลบความหนาแน่นtเป้าหมาย Antalumสำหรับการประมวลผลที่ตามมา
Zhenan High High Purity Tantalum Target Product Parameter Table Table Table
| พื้นผิว | พื้นผิวขัดเงา |
| ความหนาแน่น | 16.65g/cm3 |
| จุดหลอมเหลว | 2996 องศา |
| แอปพลิเคชัน | การเคลือบฟิล์ม PVD, การเคลือบฟิล์มบางแสง, การใช้งานในอุตสาหกรรม, กระบวนการ, พื้นที่ semidodochor, การทดลอง ฯลฯ |
| รายการที่เกี่ยวข้อง | Al, Mg, Cu, Ni, Co, Fe, Zn, Sn, Bi, Ga, Ge, In, V, W, Mo, Nb, Ta, Cr, Zr, Ti, HF ฯลฯ |
Zhenan Round Tantalum Target ตัวอย่างผลิตภัณฑ์แสดงภาพการแสดงผล
ข้อดีของเรา:
1. เทคโนโลยีระดับแรกและทัศนคติการทำงานที่เข้มงวด
2. ทีมมืออาชีพเพื่อแก้ปัญหาทุกประเภทที่คุณมีในระหว่างกระบวนการผลิต
3. ต้นทุนการจัดซื้อต่ำสำหรับคำสั่งซื้อซ้ำ
4. บริการลูกค้า
คำถามที่พบบ่อยเกี่ยวกับ Zhenan
1. คุณสามารถรักษาราคาต่อหน่วยไม่เปลี่ยนแปลงจากครั้งที่แล้วได้หรือไม่?
ราคาของผลิตภัณฑ์ของเราจะผันผวนตามราคาวัตถุดิบและอาจเพิ่มขึ้นหรือลดลง แม้ว่าความผันผวนจะมีขนาดใหญ่ แต่เราจะพยายามอย่างเต็มที่เพื่อรักษาราคาที่ดีที่สุดสำหรับคุณ
2. ผลิตภัณฑ์อะไรเป็นหลัก?
เราจัดหาทังสเตน, โมลิบดีนัม, เซอร์โคเนียม, แทนทาลัม, ไนโอเบียมและผลิตภัณฑ์โลหะผสมของพวกเขา
3. การควบคุมคุณภาพของ บริษัท ของคุณคืออะไร?
เรามีการรับรอง ISO 9001: 2015 และเราต้องตรวจสอบผลิตภัณฑ์ของเราอย่างเคร่งครัดโดยแผนกควบคุมคุณภาพก่อนการจัดส่ง
4. เราสามารถให้บริการอะไรได้บ้าง?
เงื่อนไขการจัดส่งที่ยอมรับ: FOB, CFR, CIF, EXW, FAS, CIP, FCA, Express;
วิธีการชำระเงินที่ยอมรับ: T/T, L/C, PayPal;
5. คุณสามารถสร้างผลิตภัณฑ์ด้วยการออกแบบของฉันได้หรือไม่?
ใช่เราทำได้เราให้บริการที่กำหนดเอง คุณสามารถส่งรายละเอียดทั้งหมดที่คุณต้องการจากนั้นเราจะให้ใบเสนอราคาโดยละเอียด