มีเทคนิคการปรับเปลี่ยนพื้นผิวสำหรับเป้าหมายทังสเตนหรือไม่?

ใช่มีเทคนิคการปรับเปลี่ยนพื้นผิวหลายอย่างสำหรับเป้าหมายทังสเตน เทคนิคหนึ่งคือการสะสมการเคลือบพลังงานพื้นผิวต่ำบนพื้นผิวของเป้าหมายทังสเตน สิ่งนี้สามารถทำได้ผ่านวิธีการต่าง ๆ เช่นการสะสมไอสารเคมีที่เพิ่มขึ้นในพลาสมา (PECVD) หรือการสะสมไอทางกายภาพ (PVD)
การเคลือบพลังงานพื้นผิวต่ำสามารถลดพลังงานพื้นผิวของเป้าหมายทังสเตนซึ่งสามารถช่วยลดการยึดเกาะของวัสดุและป้องกันการสะสมของวัสดุในระหว่างการประมวลผลพลาสมา อีกเทคนิคหนึ่งคือการทำให้พื้นผิวของเป้าหมายทังสเตนซึ่งสามารถทำได้ผ่านวิธีการต่าง ๆ เช่นการระเหยด้วยเลเซอร์หรือการยิง
Texturizing สามารถสร้างพื้นผิวขรุขระที่ช่วยเพิ่มความสามารถในการเปียกของพื้นผิวโดยการลดพื้นที่สัมผัสระหว่างพื้นผิวเป้าหมายและวัสดุซึ่งจะช่วยลดการยึดเกาะของวัสดุ เทคนิคการปรับเปลี่ยนพื้นผิวเหล่านี้สามารถปรับปรุงประสิทธิภาพและอายุการใช้งานของเป้าหมายทังสเตนในเทคโนโลยีการประมวลผลวัสดุพลาสมา